|
Подробная информация о продукте:
Оплата и доставка Условия:
|
Laser Type: | Excimer (193nm/248nm), Femtosecond (343nm/1030nm) | Processing Area: | Max 150mm × 150mm |
---|---|---|---|
Processing Speed: | 50–300mm/s | Lift-Off Thickness: | 10nm–20μm |
System Integration: | EFU clean unit, exhaust gas treatment system | Application: | Semiconductor Manufacturing,Flexible Electronics |
Выделить: | Машина для лазерной сепарации SiC-субстратов,Специализированная машина для лазерного отделения SiC-субстрата |
Машина системы лазерного разделения подложек SiC 6-12 дюймов, изготовленная по индивидуальному заказу
Система Laser Lift-Off (LLO) - это передовая технология прецизионной обработки, использующая высокоэнергетические импульсные лазеры для достижения селективного разделения материалов на границах раздела. Эта технология широко применяется в производстве полупроводников, гибкой электронике, оптоэлектронных устройствах и энергетическом секторе. Ее основные преимущества включают бесконтактную обработку, управление с высоким разрешением и совместимость с различными материалами, что делает ее незаменимой для таких применений, как массовый перенос MicroLED, изготовление гибких дисплеев и упаковка полупроводниковых пластин.
Основные моменты обслуживания компании:
Индивидуальные решения: Индивидуальная длина волны лазера (193 нм–1064 нм), мощность (1 Вт–100 Вт) и интеграция автоматизации для поддержки исследований и разработок и массового производства.
Разработка процессов: Оптимизация параметров лазера, разработка формы луча и услуги валидации (например, УФ-лазер LLO для сапфировых подложек).
Интеллектуальное обслуживание: Интегрированный удаленный мониторинг и диагностика неисправностей, обеспечивающие круглосуточную поддержку с временем отклика менее 2 часов.
Типичные значения | Примечания | Тип лазера |
Эксимерный (193 нм/248 нм), фемтосекундный (343 нм/1030 нм) | Ширина импульса 5–20 нс, пиковая мощность >10 кВт | Область обработки |
Макс. 150 мм × 150 мм | Параллельная обработка на нескольких станциях | Скорость обработки |
50–300 мм/с | Регулируется в зависимости от материала и мощности лазера | Толщина отрыва |
10 нм–20 мкм | Возможность послойного расслоения | Интеграция системы |
Блок очистки EFU, система очистки выхлопных газов | Соответствие чистоте ISO 14644 | Машина системы лазерного разделения |
Лазерное облучение: Высокоэнергетические импульсы (например, эксимерные или фемтосекундные лазеры) фокусируются на целевой границе раздела (например, сапфир-GaN), вызывая фототермические/фотохимические реакции.
Разложение интерфейса: Лазерная энергия запускает газификацию (например, GaN → Ga + N₂), генерируя плазму и термическое напряжение для контролируемого расслоения.
Сбор материала: Расслоенные микроструктуры захватываются с помощью вакуумного всасывания или динамики жидкости, обеспечивая передачу без загрязнений.
Ключевые технологии:
Ультрабыстрые лазеры: Фемтосекундные импульсы (
ОсобенностьТехнические характеристики | Применения | Бесконтактная обработка |
Лазерная энергия передается через оптику, избегая механического напряжения на хрупких материалах | Гибкие OLED, MEMS | Высокая точность |
Точность позиционирования ±0,02 мм, контроль плотности энергии ±1% | Перенос MicroLED, структурирование субмикронного уровня | Совместимость с различными материалами |
Поддерживает УФ (CO₂), видимые (зеленые) и ИК лазеры; совместим с металлами, керамикой, полимерами | Полупроводники, медицинские устройства, возобновляемые источники энергии | Интеллектуальное управление |
Интегрированное машинное зрение, оптимизация параметров на основе ИИ, автоматическая загрузка/выгрузка | Увеличение эффективности производства на 30%+ |
Машина системы лазерного разделения FAQ
Машина системы лазерного разделения FAQ
Машина системы лазерного разделения FAQ
Машина системы лазерного разделения FAQ
2. Вопрос: Какие отрасли используют системы LLO?
Ответ: Системы LLO имеют решающее значение в производстве полупроводников (упаковка на уровне пластин), гибкой электронике (складные дисплеи), медицинских устройствах (производство датчиков) и возобновляемых источниках энергии (солнечные элементы), предлагая бесконтактную обработку с высоким разрешением.
Теги: #6-12 дюймов, #1064 нм, # Машина системы лазерного разделения подложек SiC, #Wafers Customized
Контактное лицо: Mr. Wang
Телефон: +8615801942596