Отправить сообщение
ПРОДУКТЫ
ПРОДУКТЫ
Дом > ПРОДУКТЫ > Оборудование полупроводника > Оборудование для микрореактивной лазерной технологии для срезки пластинок металлическим карбидом кремния

Оборудование для микрореактивной лазерной технологии для срезки пластинок металлическим карбидом кремния

Детали продукта

Место происхождения: Китай

Фирменное наименование: ZMSH

Сертификация: rohs

Номер модели: Оборудование для технологии лазера микроджета

Условия оплаты и доставки

Количество мин заказа: 1

Цена: by case

Время доставки: 5-10 месяцев

Условия оплаты: T/T

Получите самую лучшую цену
Выделить:
Purpose::
Microjet laser technology equipment
Объем стола::
300*300*150
Positioning accuracy μm::
+/-5
Repeated positioning accuracy μm::
+/-2
Тип цифрового управления::
DPSS Nd:YAG
Wavelength::
532/1064
Purpose::
Microjet laser technology equipment
Объем стола::
300*300*150
Positioning accuracy μm::
+/-5
Repeated positioning accuracy μm::
+/-2
Тип цифрового управления::
DPSS Nd:YAG
Wavelength::
532/1064
Оборудование для микрореактивной лазерной технологии для срезки пластинок металлическим карбидом кремния

Оборудование для микрореактивной лазерной технологии для срезки пластинок металлическим карбидом кремния 0

Аннотация к статьеоборудование для лазерной технологии icrojet

 

Оборудование для микрореактивной лазерной технологии для срезки пластинок металлическим карбидом кремния

 

 

Системы Microjet Laser позволяют сверхточно обрабатывать полупроводниковые материалы, соединяя высокоэнергетические импульсные лазеры с жидкими струями микроскопа (обычно деионизированной водой или инертными жидкостями),с использованием направляющих и охлаждающих эффектов жидких струй.

 

Благодаря высокой точности, низкому уровню повреждений и высокой чистоте микрореактивные лазерные технологии заменяют традиционные процессы обработки и сухих лазеров в области полупроводников.особенно в полупроводниках третьего поколения (SiC/GaN), 3D упаковки и обработки сверхтонких пластин.

 

 


 

Обработка лазером микроджета

 

 

Оборудование для микрореактивной лазерной технологии для срезки пластинок металлическим карбидом кремния 1

 

 


 

Технические спецификации

 

Объем столешницы 300*300*150 400*400*200
Линейная ось XY Линейный двигатель. Линейный двигатель.
Линейная ось Z 150 200
Точность позиционирования μm +/-5 +/-5
Точность повторного позиционирования μm +/-2 +/-2
Ускорение G 1 0.29
Численное управление 3 оси /3+1 оси /3+2 оси 3 оси /3+1 оси /3+2 оси
Тип цифрового управления DPSS Nd:YAG DPSS Nd:YAG
длина волны nm 532/1064 532/1064
Номинальная мощность W 50/100/200 50/100/200
Водяной струй 40-100 40-100
Стержень давления на соплах 50-100 50-600
Размеры (машинный инструмент) (ширина * длина * высота) мм 1445*1944*2260 1700*1500*2120
Размер (контрольный шкаф) (W * L * H) 700*2500*1600 700*2500*1600
Масса (оборудование) T 2.5 3
Масса (контрольный шкаф) в кг 800 800

Возможность обработки

Грубость поверхности Ra≤1,6um

Скорость открытия ≥ 1,25 мм/с

Резание окружности ≥6 мм/с

Линейная скорость резки ≥ 50 мм/с

Грубость поверхности Ra≤1,2 mm

Скорость открытия ≥ 1,25 мм/с

Резание окружности ≥6 мм/с

Линейная скорость резки ≥ 50 мм/с

 

Для галлиевого нитрида, ультраширокополосных полупроводниковых материалов (алмаз/оксид галлия), аэрокосмических специальных материалов, углеродной керамической субстрат LTCC, фотоэлектрических,обработка сцинтилляторных кристаллов и других материалов.

Примечание: мощность обработки зависит от характеристик материала.

 

 

 


Оборудование для микрореактивной лазерной технологии для срезки пластинок металлическим карбидом кремния 2

Технические преимущества микрореактивного лазерного оборудования

 

1Небольшая потеря материалов и оборудования для обработки


2. значительно уменьшить шлифовальные звенья


3. Низкая стоимость труда автоматизированной обработки


4Высококачественная обработка стенки и режущего края


5Чистая переработка без загрязнения окружающей среды


6Высокая эффективность обработки


7. Высокий урожай переработки

 

 


 

Письменное изготовление микрофлюидной кремниевой пластины с помощью лазера

 

Испытание с параметрами обработки отладки, и эффект резки показан на рисунке ниже.Вафля полностью поцарапана., а задняя часть режущей ленты (УФ-пленки) в основном не повреждена и не царапина.

 

 

Оборудование для микрореактивной лазерной технологии для срезки пластинок металлическим карбидом кремния 3

 

 


 

Вопросы и ответы

 

1Вопрос: Каковы основные преимущества оборудования с микрореактивной лазерной технологией?
A: Преимущества микрореактивного лазерного оборудования включают высокую точность обработки, хороший эффект охлаждения, отсутствие зоны, подверженной воздействию тепла, параллельный режущий край и эффективную производительность обработки,подходящий для точной обработки твердых и хрупких материалов.

 

 

2В: В каких областях используется оборудование с микрореактивной лазерной технологией?
О: Технологическое оборудование микрореактивного лазера широко используется в полупроводниках третьего поколения, аэрокосмических материалах, резке алмазов, металлизированном алмазе, керамической подложке и других областях.

 

 


Теги: #Microjet Island лазерное оборудование, #Microjet лазерная технология, #Полупроводниковая обработка пластин, #Wafer slice, #Silicon carbide material, #Wafer dicing, #Metal

 

 

 

Аналогичные продукты
Получите самую лучшую цену