Отправить сообщение
ПРОДУКТЫ
ПРОДУКТЫ
Дом > ПРОДУКТЫ > Вафля нитрида галлия > N-GaAs субстрат VCSEL Epiwafer 6 дюймов Gallium Arsenide Wafer 2 дюймов <100> <110> Для оптоэлектронных устройств

N-GaAs субстрат VCSEL Epiwafer 6 дюймов Gallium Arsenide Wafer 2 дюймов <100> <110> Для оптоэлектронных устройств

Детали продукта

Place of Origin: China

Фирменное наименование: ZMSH

Model Number: N-GaAs Substrate

Условия оплаты и доставки

Delivery Time: 2-4 weeks

Payment Terms: T/T

Получите самую лучшую цену
Выделить:

2 дюйма галлиевого арсенида

,

Эпивафер VCSEL с субстратом N-GaAs

,

6 дюймовый вафли с галлиевым арсенидом

Материал:
Арсенид галлия
Размер:
2 дюйма
Толщина:
430мм
ориентация:
<111> <110>
Тип:
тип n
Режим полости Единообразие:
≤ 1%
Материал:
Арсенид галлия
Размер:
2 дюйма
Толщина:
430мм
ориентация:
<111> <110>
Тип:
тип n
Режим полости Единообразие:
≤ 1%
N-GaAs субстрат VCSEL Epiwafer 6 дюймов Gallium Arsenide Wafer 2 дюймов <100> <110> Для оптоэлектронных устройств

2-дюймовый N-Галлий арсенид субстрат, N-GaAs VCSEL эпитаксиальная пластина, полупроводниковая эпитаксиальная пластина, 2-дюймовый N-GaAs субстрат, GaAs однокристаллическая пластина 2-дюймовые 3-дюймовые 4-дюймовые N-GaAs субстрат,полупроводниковые пластинки, N-галлиевый арсенид лазерный эпитаксиальный пластинка


Характеристики субстрата N-GaAs


- использовать для изготовления субстраты ГаА

- поддерживать индивидуальные с дизайном рисунков

- прямой пробел, эффективно излучает свет, используется в лазерах.

- в диапазоне длин волн от 0,7 мкм до 0,9 мкм, квантовые скважины

- с использованием таких методов, как MOCVD или MBE, гравирование, металлизация и упаковка для достижения конечной формы устройства



ОписаниеСубстрат N-GaAs
VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) epitaxial wafers based on N-GaAs (n-type gallium arsenide) substrates are a key optoelectronic material widely used in the fields of lasers and optical communications.
Субстрат N-GaAs состоит из галлия (Ga) и мышьяка (As) и использует технологию допинга n-типа для увеличения концентрации свободных электронов,тем самым улучшая проводимость и мобильность электронов.
Этот материал имеет энергетическую полосу пропускания около 1,42 eV, что подходит для лазерного излучения и имеет отличные оптоэлектронные свойства.

Структура VCSEL обычно включает в себя несколько квантовых скважин и слоев рефлекторов, которые выращиваются на субстрате N-GaAs для формирования эффективной лазерной полости.
Квантовый слой скважины отвечает за возбуждение и излучение лазеров, в то время как рефлектор повышает эффективность выхода лазера.
Отличная тепловая стабильность и электрические свойства субстрата N-GaAs обеспечивают высокую производительность и стабильность VCSEL, что позволяет ему хорошо работать при высокоскоростной передаче данных.


VCSEL на основе N-GaAs-субстратов широко используются в таких областях, как оптическая волоконная связь, лазерные принтеры и датчики.
Его высокая эффективность и низкое потребление энергии делают его важной частью современных коммуникационных технологий.
В связи с растущим спросом на высокоскоростную передачу данных технология VCSEL на основе N-GaAs постепенно становится важным направлением для развития оптоэлектроники.содействие прогрессу и инновациям различных приложений.



Подробная информация о субстрате N-GaAs

Параметр VCSEL
ставка 25G/50G
длина волны 850 нм
Размер 4 дюйма / 6 дюймов
Режим полости Толерантность В пределах ± 3%
Режим полости Единообразие ≤ 1%
Уровень допинга Толерантность В пределах ± 30%
Уровень допинга Единообразие ≤ 10%
PL Однородность длины волны СД.Дев лучше, чем 2 нм @ внутренний 140 мм
Однородность толщины Лучше, чем ± 3% @внутренняя часть 140 мм
Молевая доля x Толерантность В пределах ±0.03
Молевая доля x Единообразие ≤ 0.03

Еще несколько образцов субстрата N-GaAs
N-GaAs субстрат VCSEL Epiwafer 6 дюймов Gallium Arsenide Wafer 2 дюймов <100> <110> Для оптоэлектронных устройств 0N-GaAs субстрат VCSEL Epiwafer 6 дюймов Gallium Arsenide Wafer 2 дюймов <100> <110> Для оптоэлектронных устройств 1
* Если у вас есть индивидуальные требования, пожалуйста, не стесняйтесь связаться с нами.


О нас
О нас
Наше предприятие, ZMSH, специализируется на исследованиях, производстве, переработке и продаже полупроводниковых субстратов и оптических кристаллических материалов.
У нас есть опытная инженерная команда, опыт управления, оборудование для точной обработки и испытательные приборы,предоставляя нам чрезвычайно сильные возможности в переработке нестандартных продуктов.
Мы можем исследовать, разрабатывать и проектировать различные новые продукты в соответствии с потребностями клиентов.
Компания будет придерживаться принципа "ориентированного на клиента, основанного на качестве" и стремиться стать высокотехнологичным предприятием высшего уровня в области оптоэлектронных материалов.


Рекомендации по аналогичным продуктам
1.2" S Допированный полупроводниковый GaP EPI Wafer N Type P Type 250um 300um светоизлучающие диодыN-GaAs субстрат VCSEL Epiwafer 6 дюймов Gallium Arsenide Wafer 2 дюймов <100> <110> Для оптоэлектронных устройств 2


2.2" 3" FZ SiO2 Single Crystal IC Chips 100um 200um Сухой влажный окислительный слой 100nm 300nm
N-GaAs субстрат VCSEL Epiwafer 6 дюймов Gallium Arsenide Wafer 2 дюймов <100> <110> Для оптоэлектронных устройств 3



Частые вопросы
1. Вопрос: Что насчет стоимости N-GaAs субстратов по сравнению с другимисубстраты?
А:Субстраты N-GaAsкак правило, дороже, чем кремнийсубстратыи некоторые другие полупроводниковые материалы.

2Вопрос: Что насчет будущих перспективСубстраты N-GaAs?
A: Будущие перспективы
Субстраты N-GaAsОни весьма перспективны.

Аналогичные продукты