| Наименование марки: | ZMSH |
| Номер модели: | Вафля InP |
| Время доставки: | 2-4 недели |
| Условия оплаты: | T/T |
2-дюймовый полуизоляционный фосфид индия ИНП эпитаксиальная пластина для LD лазерного диода, полупроводниковый эпитаксиальная пластина, 3-дюймовый InP пластина, однокристаллическая пластина 2 дюймовые 3 дюймовые 4 дюймовые InP субстраты для LD применения,полупроводниковые пластинки, InP Laser Epitaxial Wafer
Особенности лазерной эпитаксиальной пластины InP![]()
- использовать InP-вофли для производства
- поддерживать индивидуальные с дизайном рисунков
- прямой диапазон, эффективно излучает свет, используется в лазерах.
- в диапазоне длин волн от 1,3 мкм до 1,55 мкм, квантовые скважины
- с использованием таких методов, как MOCVD или MBE, гравирование, металлизация и упаковка для достижения конечной формы устройства
Подробнее о лазерной пластине InP
InP эпитаксиальные пластины - это высококачественные тонкие пленки на основе индийного фосфида (InP), которые широко используются в производстве оптоэлектроники и высокочастотных электронных устройств.
выращивается на ин-П субстратах с помощью таких методов, как металлическое органическое химическое отложение паров (MOCVD) или молекулярная эпитаксия луча (MBE),эпитаксиальные пластинки имеют отличное кристаллическое качество и контролируемую толщину.
Прямые характеристики полосового разрыва этой эпитаксиальной пластинки позволяют ей хорошо работать в лазерах и фотодетекторах, особенно для оптических приложений связи в диапазоне 1,3 мкм и 1.Диапазон длины волны 55 мкм, обеспечивая передачу данных с низкими потерями и высокой пропускной способностью.
В то же время, высокая мобильность электронов и низкие характеристики шума InP эпитаксиальных пластин также дают им значительные преимущества в высокоскоростных и высокочастотных приложениях.
Кроме того, с непрерывным развитием интегральных оптоэлектронных схем и технологии связи оптических волокон,перспективы применения эпитаксиальных пластин InP становятся все более широкими, и он стал незаменимым и важным материалом в современных оптоэлектронных устройствах и системах.
Его применение в датчиках,Лазеры и другие высокопроизводительные электронные устройства способствовали развитию соответствующих технологий и заложили основу для будущих научных и технологических инноваций..
Подробная информация о лазерной эпитаксиальной пластинке InP
| Параметры продукта | Эпитаксиальная пластина DFB | Высокомощный DFB эпитаксиальный пластинка | Силиконовая фотоника эпитаксиальная пластина |
| ставка | 10G/25G/50G | / | / |
| длина волны | 1310 нм | ||
| Размер | 2/3 дюйма | ||
| Характеристики продукта | CWDM 4/PAM 4 | Технология BH | PQ /AlQ DFB |
| PL Управление длиной волны | Лучше, чем 3 нм. | ||
| LPL Однородность длины волны | СД.Дев лучше 1 нм @inner | ||
| Контроль толщины | 42 мм Лучше, чем +3% | ||
| Однородность толщины | Лучше, чем +3% @внутренний 42 мм | ||
| Контроль допинга | Лучше +10% | ||
| Допинг P-lnP (см-3) | Zn допированный; от 5e17 до 2e18 | ||
| Допинг N-InP (см-3) | Си допированный; от 5e17 до 3e18 | ||
Еще несколько образцов лазерной эпитаксиальной пластины.
![]()
![]()
*Мы принимаем индивидуальные требования
Рекомендации по аналогичным продуктам
1.4 дюймов 6 дюймов GaN-on-Si GaN-on-SiC Epi вафры для RF применения
2.2" 3" FZ SiO2 Single Crystal IC Chips 100um 200um Сухой влажный окислительный слой 100nm 300nm
Частые вопросы
1. Вопрос: Что насчет стоимости InP лазерных эпитаксиальных пластин по сравнению с другими пластинками?
О: Стоимость лазерных эпитаксиальных пластин InP, как правило, выше, чем у других типов пластин, таких как кремний или галлиевый арсенид (GaAs).
2Вопрос: Что насчет будущих перспективЭпитаксиальная лазерная терапияпластинки?
О: Будущие перспективы лазерных эпитаксиальных пластин InP весьма перспективны.