Дом
>
ПРОДУКТЫ
>
Вафля фосфида индия
>
|
| Место происхождения | КИТАЙ |
| Фирменное наименование | zmkj |
| Номер модели | InP-3INCH |
Полу-изолируя вафля для лазерного диода LD, вафля InP фосфида индия 4inch полупроводника, вафля InP 3inch, одиночные кристаллические субстраты для применения LD, вафля InP wafer2inch 3inch 4inch полупроводника, вафля InP, одиночная кристаллическая вафля
InP вводит
| Кристалл InP одиночный | |
|
|
|
рост (доработанный метод Czochralski) использован для того чтобы вытянуть одиночное кристалл через борную жидкость окиси encapsulant старт с семенем. Dopant (Fe, s, Sn или Zn) добавлен к тиглю вместе с polycrystal. Высокое давление приложено внутри камеры предотвратить декомпозицию компании индия Phosphide.he начинало процесс для того чтобы произвести кристалл полностью stoechiometric, особой чистоты и низкой плотности дислокации inP одиночный. к термальной технологии дефлектора в связи с численным моделирование термальных условий роста. tCZ рентабельное зрелая технология с высококачественной воспроизводимостью от boule к boule |
|
Спецификация
Fe дал допинг InP
Полу-изолируя спецификации InP
| Метод роста | VGF |
| Dopant | Утюг (FE) |
| Форма вафли | Круг (DIA: 2", 3", И 4") |
| Поверхностная ориентация | (100) ±0.5° |
Ориентации *Other возможно доступные по требованию
| Резистивность (Ω.cm) | ≥0.5 × 107 |
| Подвижность (см2 /V.S) | ≥ 1 000 |
| Вытравите плотность тангажа (см2) | 1,500-5,000 |
| Диаметр вафли (mm) | 50.8±0.3 | 76.2±0.3 | 100±0.3 |
| Толщина (µm) | 350±25 | 625±25 | 625±25 |
| TTV [P/P] (µm) | ≤ 10 | ≤ 10 | ≤ 10 |
| TTV [P/E] (µm) | ≤ 10 | ≤ 15 | ≤ 15 |
| ИСКРИВЛЕНИЕ (µm) | ≤ 15 | ≤ 15 | ≤ 15 |
| (mm) | 17±1 | 22±1 | 32.5±1 |
| /ЕСЛИ (mm), то | 7±1 | 12±1 | 18±1 |
| Polish* | E/E, P/E, P/P | E/E, P/E, P/P | E/E, P/E, P/P |
*E=Etched, P=Polished
Примечание: Другие спецификации возможно доступные по требованию
n- и p типа InP
Полу-проводя спецификации InP
| Метод роста | VGF |
| Dopant | n типа: S, Sn И Undoped; p типа: Zn |
| Форма вафли | Круг (DIA: 2", 3", И 4") |
| Поверхностная ориентация | (100) ±0.5° |
Ориентации *Other возможно доступные по требованию
| Dopant | S & Sn (n типа) | Undoped (n типа) | Zn (p типа) |
| Концентрация несущей (cm-3) | (0.8-8) × 1018 | × 1015 (1-10) | (0.8-8) ×1018 |
| Подвижность (см2 /V.S.) | × 103 (1-2.5) | × 103 (3-5) | 50-100 |
| Вытравите плотность тангажа (см2) | 100-5,000 | ≤ 5000 | ≤ 500 |
| Диаметр вафли (mm) | 50.8±0.3 | 76.2±0.3 | 100±0.3 |
| Толщина (µm) | 350±25 | 625±25 | 625±25 |
| TTV [P/P] (µm) | ≤ 10 | ≤ 10 | ≤ 10 |
| TTV [P/E] (µm) | ≤ 10 | ≤ 15 | ≤ 15 |
| ИСКРИВЛЕНИЕ (µm) | ≤ 15 | ≤ 15 | ≤ 15 |
| (mm) | 17±1 | 22±1 | 32.5±1 |
| /ЕСЛИ (mm), то | 7±1 | 12±1 | 18±1 |
| Polish* | E/E, P/E, P/P | E/E, P/E, P/P | E/E, P/E, P/P |
*E=Etched, P=Polished
Примечание: Другие спецификации возможно доступные по требованию
| Обработка вафли InP | |
|
|
| Каждый слиток отрезан в вафли которые сложены, отполированный и поверхность подготовленную для эпитаксии. Общий процесс детализирован hereunder. | |
|
|
| Плоские спецификация и идентификация | Ориентация показана на вафлях 2 квартирами (длиной плоскими для ориентации, небольшой квартиры для идентификации). Обычно стандарт E.J. (Европейск-японский) использован. Другая плоская конфигурация (США) главным образом использована на Ø 4" вафли. |
|
|
| Ориентация boule | Или точные (100) или misoriented вафли предложены. |
|
|
| Точность ориентации | В ответ на потребности электронно-оптической индустрии, мы вафли предложений с превосходной точностью ориентации: < 0=""> |
|
|
| Профиль края | 2 общих спецификации: химический край обрабатывая или механический обрабатывая края (с точильщиком края). |
|
|
| Полировать | Вафли отполированы посредством химикат-механического процесса приводящ в плоской, свободной от повреждени поверхности. мы обеспечиваем обе вдухсторонних отполированных и односторонних отполированных (с сложенных и вытравленных назад стороной) вафли. |
|
|
| Окончательные подготовка поверхности и упаковка | Вафли идут через много химических шагов извлечь окись произведенную во время полировать и создать чистую поверхность со стабилизированным и равномерным слоем окиси который готов для эпитаксиального роста - epiready поверхность и это уменьшают прослеживающие элементы к весьма - низшие уровни. После финальной инспекции, вафли упакованы в пути который поддерживает поверхностную чистоту. Специфические инструкции для удаления окиси доступны для всех типов эпитаксиальных технологий (MOCVD, MBE). |
|
|
| База данных | Как часть наших статистически управления производственным процессом/полной программы управления качеством, обширная база данных записывая электрические и механические свойства для каждых слитка так же, как кристаллического анализа качества и поверхностных вафель доступна. На каждом этапе изготовления, продукт проверен перед проходить к следующему этапу для поддержания высокого уровня качественной последовательности от вафли к вафле и от boule к boule. |
Пакет & доставка
вопросы и ответы:
Q: Что ваши MOQ и срок поставки?
: (1) для инвентаря, MOQ 5 ПК.
(2) для подгонянных продуктов, MOQ 10-30 ПК вверх.
(3) для подгонянных продуктов, срок поставки в 10days, custiomzed размер для 2-3weeks
Свяжитесь мы в любое время
