Главная ПродуктыВафля нитрида галлия

Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм

Оставьте нам сообщение

Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм

Китай Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм поставщик
Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм поставщик Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм поставщик

Большие изображения :  Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм

Подробная информация о продукте:

Место происхождения: Китай
Фирменное наименование: zmsh
Номер модели: ГаН-001

Оплата и доставка Условия:

Количество мин заказа: 1шт
Цена: by case
Упаковывая детали: одиночный случай вафли в комнате чистки 100 рангов
Время доставки: 2-4 Weeks
Условия оплаты: L/C, T/T
Поставка способности: 10pcs/month
Contact Now
Подробное описание продукта
Материал: Кристалл ГаН одиночный промышленность: Вафля полупроводника, СИД
Применение: полупроводниковое устройство, вафля ЛД, вафля СИД, детектор исследователя, лазер, Тип: Шаблон ХВПЭ
Индивидуальные: О'КЕЙ Размер: 10С10,5С5,20С20,30С30, ДИА45ММ,

вафля ГаН нитрида галлия метода 2инч ХВПЭ, свободные стоящие субстраты для ЛД, обломоки ГаН ГаН размера 10кс10мм, вафля ХВПЭ ГаН

 

О особенности ГаН введите

 Растущий спрос для высокоскоростных, высокотемпературных и высоких сил-регулируя возможностей имеет индустрию полупроводника мадете переосмыслить выбор материала используемые как полупроводники. Например,                      

по мере того как различные более быстрые и более небольшие вычислительные приборы возникают, польза кремния делает ее трудным вытерпеть закон Мооре. Но также в вафле производительности электроники, поэтому полупроводнике ГаН растет вне для потребности.              

 Должен к своим уникальному пробивному напряжению характеристик (высокое максимальное настоящего, высокой, и высокой переключая частоте), нитрид ГаН галлия уникальный материал выбора для того чтобы разрешить энергитические проблемы будущего.   ГаН основало системы имеет более высокий энергетический коэффициент полезного действия, таким образом уменьшающ потери электропитания, переключите на более высокой частоте, таким образом уменьшающ размер и вес.    

                                                                                                                                                                           

   Технология ГаН использована в многочисленных высокомощных применениях как электропитания промышленных, потребителя и сервера, привод солнечных, АК и инверторы УПС, и гибридные и электрические автомобили. Фуртерморе,                       

ГаН идеально одето для применений РФ как клетчатые базовые станции, радиолокаторы и кабельное телевидение                             

инфраструктура в сети, участках воздушно-космического пространства и обороны, спасибо своя высокая пробивная напряженность, малошумной диаграмме и высоких линеарностях.

 

 

 

Спецификации для субстратов ГаН

 

 

2" субстраты ГаН  
Деталь ГаН-ФС-Н ГаН-ФС-СИ
Размеры ± 1мм Ф 50.8мм
Плотность дефекта Марко Уровень см-2 ≤ 2
Уровень б > 2 см-2
Толщина 330 µм ± 25
Ориентация ± 0.5° К-оси (0001)
Ориентация плоская ± 0.5° (1-100), ± 16,0 1.0мм
Вторичная ориентация плоская ± 3° (11-20), 8,0 ± 1.0мм
ТТВ (полное изменение толщины) µм ≤15
СМЫЧОК µм ≤20
Тип кондукции Н типа Полу-изолировать
Резистивность (300К) < 0=""> >106 Ω·см
Плотность дислокации Чем 5кс106 см-2
Годная к употреблению поверхностная область > 90%
Полировать Лицевая поверхность: Ра < 0="">
Задняя поверхность: Точная земля
Пакет Упакованный в окружающей среде чистой комнаты класса 100, в одиночных контейнерах вафли, под атмосферой азота.

П-ГаН на сапфире

Рост МОКВД/ХВПЭ
Проводимость Тип п
Допант Мг
Концентрация > 5Э17 км-3
Толщина 1 | 5 ум
Резистивность < 0="">
Субстрат Ø 2"/Ø 3"/Ø 4" вафля сапфира

Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм

Применения

  1. - Различное СИД: белое СИД, фиолетовое СИД, ультрафиолетов СИД, голубое СИД
  2. - Экологическое обнаружение
  3. Субстраты для эпитаксиального роста МОКВД етк
  4. - Лазерные диоды: фиолетовый ЛД, зеленый ЛД для ультра небольших репроекторов.
  5. - Электронные устройства силы
  6. - Высокочастотные электронные устройства
  7. Дисплей проекции лазера, прибор силы, етк.
  8. Хранение даты
  9. С низким энергопотреблением освещение
  10. Электронные устройства высокой эффективности
  11. Новая технология водопода солор энергии
  12. Диапазон терахэртц источника света

Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм

Вафля ГаН нитрида галлия ХВПЭ, положение обломока Ган свободное размер 10 кс 10 мм

Контактная информация
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Контактное лицо: Wang

Оставьте вашу заявку (0 / 3000)

Другие продукты